主要规格及技术指标

"热蒸发镀膜系统是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由的分布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。此仪器在高真空下，采用电阻式蒸发原理，利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料，使其在高温下熔化蒸发，从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500℃的金属薄膜的制备。1. 真空腔体：采用SUS304真空专用不锈钢
2. 腔体泄漏率：≤1×10-9Pa.m3/S.
3. 空载极限真空：＜6×10-5Pa.
4. 通干燥氮气情况下，从大气--6×10-4Pa，小于45分钟；"

主要附件及配置

蒸发电源、真空计电源、分子泵，冷却循环仪

主要功能及特色

该系统适用于实验室制备有机/金属薄膜，可用于科研实验，也可用于教学及生产线前期工艺试验等。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。