主要规格及技术指标

"1、独立手动运行，采用高真空电子束镀膜；
2、溅射源：包括三套蒸发源（两个射频溅射靶和一个直流溅射靶）、三套水冷柱、四套挡板；
3、真空系统：采用分子泵和机械泵共同维持；
4、控制系统：同时具有手动操控方式和半自动运行方式；
5、电源系统：能保证三套溅射源同时或交替使用；
6、基片台：基片台无冷却功能，需根据要求定制Φ200mm的样品架，基片台可根据需要调节高度及转速；
7、水冷系统：需配备一台循环制冷恒温水箱，确保能满足冷却要求；
8、安全及报警系统：完备的真空保护系统，对泵、冷却循环机等缺水、过流、过热等异常情况报警并执行相应保护措施。"

主要附件及配置

冷却循化系统；气瓶；气体管道；操作控制面板。

主要功能及特色

将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术，它能够完成金属、合金、陶瓷等多种材料的沉积。具有操作简单、易于控制、镀膜面积大、附着力强和薄膜形貌可调的优点，能够实现高速、低温、低损伤的操作过程。可以广泛应用于电化学、材料化学和物理化学等领域的多种薄膜材料的制备。