主要规格及技术指标

"1.高纯N2、O2的值：20
2.液氮：0.4~0.5 MPa 压缩空气：略大于或等于0.6 MPa(或者6 kgf/cm2)
3.机械泵的N2流量：大于10 SLM（10~120SLM)一般为12~15。
4.反应室的压强：大舱室 20 Pa，小舱室12Pa（等离子体升起后)"

主要附件及配置

"电源 100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac
真空泵 30-80 m3/h
载气 99.999 % N2 / Ar, min. 2 slm
压缩空气 4-5.5 bar 过压
冷却水 反应器不需要
排气 为真空泵及源橱柜配备
样品装载选项：
Picoloader™手动样品装载系统，带一个预真空室和闸阀"

主要功能及特色

ALD可以真远程等离子体源能够在低温<100°C下高均匀度和高保形性地覆盖敏感衬底和膜层，在样品表面提供高通量的反应性气体，而不受紫外线辐射或离子轰击。ALD可以借助于用于清洗原子层沉积系统的升降装置，很容易地打开反应腔体定期反应腔体清洗。ALD设备可用于氧化物、氮化物和金属沉积，得到的三维结构具有出色的均匀性和保行性。