主要规格及技术指标

1.基片尺寸≤Ф12英寸2.电子枪功率：5-10KW3.极限真空度：5×10-5Pa4.真空抽速：3×10-4Pa/20min5.衬底温度：350℃6.温度均匀性：±10℃7.样平台转速：≤20r/min8.坩埚数量：49.镀膜均匀性：±5%（Al）10.控制系统：PC+PLC全自动控制。

主要附件及配置

无

主要功能及特色

电子蒸发镀膜机是一种普适镀膜机，用于镀制各种单层膜、多层膜。可镀各种硬质膜、金属膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。