1、生长腔室:大于中内250X250。 2、真空系统:极限真空度: 10-5Pa。3、样品台: >25mm，可手动升降;加热温度1000°C，程序控温;控温精度为土1°C。4、四路质量流量计控制工作气体和反应气体并配相应的截止阀。5、电控系统:电源:射频溅射电源-一台，功率500W;样品控温电源一台;机械泵、真空室照明控制电源一台。 分子泵、真空计、总控电源一台。所有电源均安放在一个标准电控机柜中。6、整套系统安装在一型钢结构的支撑架上，支撑架上方铺盖不锈钢装饰板，围板和支撑架喷塑处理;配备溅射室上盖升降机-一台，对泵、阴极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施

1）、真空系统∶ 10-5Pa2）、样品台大小∶ >25mm 3）、最高温度∶ 1000℃4)、等离子射频电源∶ 500 W(连续可调) 5)、气路： 4路可控气路

上下装载区：桨、LIFT、抽风系统、SLS系统